고지. 이 글은 공개된 논문과 공시를 직접 읽고 정리한 것입니다. 특정 종목의 매수·매도를 권유하지 않으며, 투자 자문이 아닙니다. 과거 사례는 사례일 뿐이고 표본이 작습니다. 판단 근거로는 부족합니다.
Readouts · 회사 페이지
SFA넥셀 (씨아이에스 · 에스에프에이넥셀 · CIS)
배터리 제조 장비
회사 정보
- 상태
- KOSDAQ 222080 · ISIN KR7222080004
- 설립
- 2015-05-22
- 대표
- 김동진
- 본사
- 대구광역시 동구 팔공로47길 37 -
- 업종
- KSIC 292
- 결산월
- 12월
- 바로 가기
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- 출처
- DART
재무 요약 (공시 기준)
| 2023 | 2024 | 2025 | |
|---|---|---|---|
| 매출액 | 310,164 | 508,541 | 407,181 |
| 영업이익 | 38,943 | 59,346 | 33,510 |
| 당기순이익 | 28,624 | 56,178 | 28,732 |
| 자산총계 | 597,029 | 733,820 | 660,203 |
| 부채총계 | 331,407 | 255,081 | 152,514 |
| 자본총계 | 265,622 | 478,740 | 507,690 |
단위: 백만 원 · 연결 재무제표 · 출처 DART 사업보고서
공시 원문의 수치를 단위만 바꿔 옮겼습니다. 증감률·평가는 싣지 않습니다.
이 회사가 나온 글
국가 R&D 과제(NTIS)
43
건
21,564,971,000
정부투자연구비 누계(원)
가장 큰 과제
- 후막전극 기반의 200 Wh/kg 이상의 고에너지밀도 리튬인산철전지 셀 제조기술 개발 2025 · 산업통상부
- 0.8mS/cm급 고이온전도체막 및 대면적 셀 구현을 위한 고안전성 에너지저장 소자용 무기계 고체전해질 소재 기술 개발 2018 · 산업통상자원부
- 0.8mS/cm급 고이온전도체막 및 대면적 셀 구현을 위한 고안전성 에너지저장 소자용 무기계 고체전해질 소재 기술 개발 2019 · 산업통상자원부
국내 특허 출원(KIPRIS)
출원인명이 다른 회사와 겹쳐 합계는 내지 않습니다. 아래는 이 회사 명의로 확인된 최근 출원입니다.
최근 공개 특허
- 이차전지용 전극재 원단 슬리팅 장치 20260629
- 이차전지 전극 제조용 원단 커팅장치 20260422
- 전극 활물질 코팅장치 20260317
- 스크랩 자동 권취장치 20260317
- 전고체전지 제조시스템 20260105
소속 저자 논문(OpenAlex)
기록 없음
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마지막 갱신 2026-09-21